
В 2022 году в рамках открытого конкурса НИУ ВШЭ «Зеркальные лаборатории» был поддержан совместный проект Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники НИУ ВШЭ – Санкт-Петербург и лаборатории эпитаксиальных технологий Южного федерального университета (ЮФУ) в г. Таганроге «Создание и исследование полупроводниковых гетероструктур А3В5 с квантовыми точками для нанофотоники, излучателей одиночных фотонов, микро- и нанолазеров».
Проект был направлен на организацию устойчивого взаимодействия двух лабораторий для проведения совместных научных исследований в области получения и исследования свойств функциональных полупроводниковых наноматериалов для применений в различных оптоэлектронных системах. Целью работы было исследование и оптимизаци процессов предварительного структурирования подложек GaAs и их предростовой подготовки, а также изучении роста квантовых точек In(Ga)As/GaAs и влияния условий молекулярно-пучковой эпитаксии на структуру и свойства получаемых полупроводниковых структур.
В 2025 году НИУ ВШЭ была поддержана заявка на продолжение совместного научного исследования в 2025-2027 годах с новым названием проекта «Источники оптического излучения на основе квантово-размерных структур А3В5 для интегральной оптоэлектроники: исследование физических явлений, разработка конструкции и методов формирования». По результатам сотрудничества первых трех лет были сформированы новые цели совместного исследования:
- Создание и исследование локализованных массивов наноструктур А3В5 для микроизлучателей на кремнии;
- Создание и исследование структур с массивами квантовых точек (в т.ч. с упорядоченными и низкоплотными) для микролазеров;
- Исследование многосекционных лазерных структур, модифицированных с помощью фокусированного ионного пучка;
- Исследование с помощью топологической оптимизации волноведущих элементов фотонных схем для сопряжения с микро- и наноизлучателями;
В ходе выполнения проекта будут получены экспериментальные данные, описывающие влияние структуры и режимов получения наногетероструктур A3B5, а также способов наноразмерного структурирования кремниевых подложек различной ориентации на морфологические, структурные и оптические свойства создаваемых массивов нановискеров и других квантоворазмерных объектов. Разработаны оптимальные методы формирования упорядоченных массивов наноструктур A3B5 и технологии эпитаксиального роста гетероструктур с квантовыми точками (КТ), обеспечивающие высокое качество материала и люминесценцию в диапазоне 1.0–1.3 мкм.
Исследование реализуется в 2025-2027 гг. при активном вовлечении студентов и аспирантов университетов-партнёров. По тематике проекта будут сформулированы задачи для квалификационных бакалаврских/магистерских/кандидатских работ.
Партнер проекта:
Партнер проекта – Южный федеральный университет
Научное подразделение партнера – Лаборатория эпитаксиальных технологий
Руководитель научного подразделения Партнера – к.т.н., Солодовник М.С.
Руководитель научного подразделения НИУ ВШЭ – д.ф.м.н. Крыжановская Н.В.
Научный коллектив:
НИУ ВШЭ
Заведующий Международной лабораторией квантовой оптоэлектроники
Заместитель декана по научной работе Санкт-Петербургскойя школы физико-математических и компьютерных наук
Научный сотрудник Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники
Ведущий научный сотрудник Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники
Научный сотрудник Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники
Научный сотрудник Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники
Младший научный сотрудник Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники
Лаборант Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники
Международная лаборатория квантовой оптоэлектроники: Менеджер
Международная лаборатория квантовой оптоэлектроники: Стажер-исследователь
Международная лаборатория квантовой оптоэлектроники: Младший научный сотрудник
ЮФУ

Доцент лаборатории эпитаксиальных технологий

Доцент лаборатории эпитаксиальных технологий

Младший научный сотрудник лаборатории эпитаксиальных технологий

Младший научный сотрудник лаборатории эпитаксиальных технологий

Лаборант-исследователь лаборатории эпитаксиальных технологий

Лаборант-исследователь лаборатории эпитаксиальных технологий

Лаборант-исследователь лаборатории эпитаксиальных технологий

Техник-проектировщик лаборатории эпитаксиальных технологий
Новости

9 апреля в журнале "Optical Materials" опубликована новая статья сотрудников Международной лаборатории квантовой оптоэлектроники НИУ ВШЭ и коллегами из лаборатории эпитаксиальных технологий в ЮФУ — Optimal As/Ga flux ratio for low-temperature overgrowth of InAs quantum dots dependent on the GaAs overgrowth rate.

10 января в журнале Applied Surface Science опубликована статья сотрудников лаборатории "New way to nanopattern GaAs surface for subcritical formation of InAs quantum dots" совместно с нашими коллегами из лаборатории эпитаксиальных технологий в ЮФУ.

8 января в журнале Optics Letters (Q1) опубликована статья сотрудников лаборатории «Ultra-short stripe microlasers fabricated with a focused ion beam etching technique» в соавторстве с нашими коллегами из ЮФУ.

Статья описывает новый подход к управлению пороговыми характеристиками лазеров со сложно модифицированным электрическим контактом и с активной областью на основе InGaAs квантовых точек, которые имеют двухуровневую генерацию.